一、噴水位置優(yōu)化

核心作用

噴水位置直接影響物料濕潤(rùn)度、粘結(jié)性及顆粒成型效果。合理位置需滿(mǎn)足：

覆蓋均勻性：確保水分均勻分布，避免局部過(guò)濕或干燥。

與加料區(qū)協(xié)同：噴水與加料區(qū)域需匹配，促進(jìn)粉末包層和團(tuán)粒黏結(jié)。

成球期控制：在轉(zhuǎn)盤(pán)運(yùn)動(dòng)軌跡的關(guān)鍵位置噴水，優(yōu)化團(tuán)塊核形成和顆粒成長(zhǎng)。

推薦位置

距離大球區(qū)(出料區(qū))較遠(yuǎn)：

噴水點(diǎn)靠近進(jìn)料端，物料在滾動(dòng)過(guò)程中逐步吸收水分，形成較小顆粒，空隙率較高。適用于生產(chǎn)粒徑較小(如2-4mm)的顆粒。

靠近大球區(qū)：

噴水點(diǎn)接近出料端，物料在滾動(dòng)后期快速吸收水分，促進(jìn)顆粒長(zhǎng)大和密實(shí)化。適用于生產(chǎn)粒徑較大(如4-6mm)的顆粒。

通用方案：

噴嘴安裝在圓盤(pán)上方10-20cm處，采用扇形噴嘴擴(kuò)大覆蓋面積，避免直接沖擊物料層;霧化壓力控制在0.2-0.5MPa，防止顆粒過(guò)濕或粘連。

驗(yàn)證方法

實(shí)驗(yàn)對(duì)比：在不同位置設(shè)置噴嘴，生產(chǎn)相同物料，比較顆粒粒徑分布、強(qiáng)度及表面光滑度。

在線(xiàn)監(jiān)測(cè)：通過(guò)攝像頭或傳感器觀(guān)察物料濕潤(rùn)狀態(tài)，調(diào)整噴水位置至最佳效果。

二、參數(shù)調(diào)整試驗(yàn)方案

關(guān)鍵參數(shù)及調(diào)整范圍

參數(shù) 調(diào)整范圍 影響

圓盤(pán)角度 35°-55° 角度過(guò)小(<35°)：物料停留時(shí)間長(zhǎng)，易過(guò)度粘結(jié);角度過(guò)大(>50°)：物料快速流出，難以成粒。

圓盤(pán)轉(zhuǎn)速 低速15-25rpm，高速30-40rpm 低速適合粘性物料，減少粉塵;高速適合松散物料，提高產(chǎn)量。

噴水量 根據(jù)物料特性調(diào)整 水少：料球松脆，不成球;水多：料球直徑增大，甚至滾成大塊。

刮刀間隙 2-5mm 控制顆粒排出厚度，影響粒徑均勻性。

擋板高度 圓盤(pán)半徑的1/3 防止物料在邊緣堆積，優(yōu)化流動(dòng)軌跡。

試驗(yàn)步驟

步驟1：基礎(chǔ)參數(shù)設(shè)定

根據(jù)物料特性(如粘度、含水率)選擇初始參數(shù)：

圓盤(pán)角度：40°(中值)

轉(zhuǎn)速：25rpm(中速)

噴水量：通過(guò)實(shí)驗(yàn)確定“手握成團(tuán)，輕碰即散”的臨界值。

步驟2：?jiǎn)我蛩刈兞吭囼?yàn)

角度試驗(yàn)：固定轉(zhuǎn)速和噴水量，調(diào)整角度(35°、40°、45°、50°)，記錄顆粒粒徑分布和強(qiáng)度。

轉(zhuǎn)速試驗(yàn)：固定角度和噴水量，調(diào)整轉(zhuǎn)速(15rpm、25rpm、35rpm)，觀(guān)察顆粒形態(tài)和產(chǎn)量。

噴水量試驗(yàn)：固定角度和轉(zhuǎn)速，調(diào)整噴水量(±10%臨界值)，分析顆粒濕度和成型效果。

步驟3：多因素正交試驗(yàn)

設(shè)計(jì)三因素三水平正交表，綜合優(yōu)化參數(shù)組合。例如：

試驗(yàn)號(hào) 角度(°) 轉(zhuǎn)速(rpm) 噴水量(%) 評(píng)價(jià)指標(biāo)

1 35 15 90% 粒徑均勻性、強(qiáng)度、產(chǎn)量

2 40 25 100% ...

... ... ... ... ...

步驟4：數(shù)據(jù)采集與分析

取樣檢測(cè)：每10-15分鐘取樣，測(cè)量顆粒強(qiáng)度、含水量及粒徑分布(篩分法)。

微調(diào)優(yōu)化：根據(jù)結(jié)果調(diào)整參數(shù)，如顆粒松散時(shí)增加噴水量或提高轉(zhuǎn)速;顆粒過(guò)大時(shí)增大角度或降低轉(zhuǎn)速。

注意事項(xiàng)

安全操作：調(diào)整參數(shù)前切斷電源，佩戴防護(hù)裝備(如眼鏡、手套)。

設(shè)備維護(hù)：定期清理圓盤(pán)、噴嘴及刮刀縫隙，防止結(jié)塊;檢查傳動(dòng)部件潤(rùn)滑狀態(tài)。

記錄與復(fù)盤(pán)：每次調(diào)整后記錄參數(shù)組合，建立數(shù)據(jù)庫(kù)以便后續(xù)優(yōu)化。